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半導(dǎo)體裂片儀MC600i

簡(jiǎn)要描述:SELA的MC600i 自動(dòng)納米裂片系統(tǒng)可以自動(dòng)、快速的獲得高質(zhì)量的樣品截面,它具備在幾分鐘內(nèi)完成單個(gè)樣品的裂解(包括切割樣品的兩側(cè)),裂解效果可以達(dá)到亞微米的精度,截面的質(zhì)量也極高且無(wú)須專(zhuān)業(yè)人士的全程指導(dǎo),系統(tǒng)所配備的算法可以實(shí)現(xiàn)裂解過(guò)程中的全自動(dòng)映射和規(guī)劃。

  • 更新時(shí)間:2024/9/11 0:00:00
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:4043
  • 產(chǎn)品型號(hào):MC600i
詳細(xì)介紹

 

Sela納米裂片系統(tǒng) MC600i

 

?    概況

 

SELAMC600i 自動(dòng)納米裂片系統(tǒng)可以自動(dòng)、快速的獲得高質(zhì)量的樣品截面,它具備在幾分鐘內(nèi)完成單個(gè)樣品的裂解(包括切割樣品的兩側(cè)),裂解效果可以達(dá)到亞微米的精度,截面的質(zhì)量也極高且無(wú)須專(zhuān)業(yè)人士的全程指導(dǎo),系統(tǒng)所配備的算法可以實(shí)現(xiàn)裂解過(guò)程中的全自動(dòng)映射和規(guī)劃。

 

MC600i系統(tǒng)可用于制備高質(zhì)量截面樣品,以供后續(xù)掃描電子顯微鏡(SEM)的檢測(cè)

 

本系統(tǒng)通過(guò)刻痕和斷裂的雙重過(guò)程制備樣品且獲得高質(zhì)量截面。斷口延晶片的一個(gè)或兩個(gè)正交劈裂矢量傳播。標(biāo)準(zhǔn)的制備過(guò)程包括兩個(gè)主要階段

•  通過(guò)一個(gè)兩級(jí)精密微裂解的設(shè)備來(lái)制備已經(jīng)預(yù)設(shè)定寬度并已做好裂解位置標(biāo)記點(diǎn)的晶片段;

•  通過(guò)精密的納米裂解設(shè)備來(lái)制備已經(jīng)做好裂解位置標(biāo)記點(diǎn)的截面樣品。

精確的微裂解設(shè)備是圍繞物理裂解晶片段的概念來(lái)設(shè)計(jì)生產(chǎn)的。

高精度的納米裂解設(shè)備包括首先在預(yù)定的邊緣位置以高精度的要求來(lái)刻劃晶片段,然后根據(jù)這個(gè)邊緣位置引導(dǎo)機(jī)械進(jìn)行沖擊,使得裂紋通過(guò)刻劃過(guò)的位置沿晶體的正交向量裂開(kāi)并精準(zhǔn)的通過(guò)裂解位置標(biāo)記點(diǎn)。從而完成晶片段的完整裂解。

 

 

 

?   性能

 

•  截面精度:300納米, 100納米(HMO),1西格瑪(全工藝)

•  截面精度:±5 微米,1西格瑪(單工藝和SDO工藝)

•  截面質(zhì)量:自然裂解

•  技術(shù)包含:納米裂解,高精度微裂解和完美裂解

 

 

 

?     MC600i 工藝流程  

 

1、快速微裂解

2、高精度納米裂解

 

 

 

 

?   初樣制備

初始樣品應(yīng)使用SELA的初樣制備設(shè)備(PCM)進(jìn)行制備。

在樣品制備之前將特定的標(biāo)記點(diǎn)設(shè)定好,初始樣品的最佳尺寸和放置應(yīng)如下(俯視圖)

最佳贗品尺寸和標(biāo)記點(diǎn)位置

 

?   制樣效果

 

 

 

 


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